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,年份:2004,8"設備完整不缺件,有2臺現貨;)18868521984龍先生
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AMAT VIISta HC離子注入機
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AMAT Centura-DPS刻蝕機
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,年份:2007,12"設備完整不缺件;)18868521984龍先生
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AMAT Centura Etch Enabler 300 2蝕刻機
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AMAT Centura Enabler蝕刻機
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AMAT Raider ECD310電化學沉積設備
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AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蝕刻機
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AMAT UVISION4缺陷檢測工具
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AMAT HTF-Centura EPI外延沉積設備
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,年份:-,200mm設備完整不缺件;)18868521984龍先生
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,年份:-,200mm設備完整不缺件;)18868521984龍先生
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AMAT RF3 涂膠顯影機
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AMAT CENTURE MXP刻蝕機
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,年份:-,200mm設備完整不缺件;)18868521984龍先生
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AMAT Endura 5500 MOCVD氣相沉積設備
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,年份:1996,6"PVD System, Can )18868521984龍先生
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AMAT P5000 PECVD刻蝕機
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,年份:1996,6" 2腔:SiO2+Si3N4,設備在)18868521984龍先生
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AMAT P5000 DRY ETCH刻蝕機
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,年份:1999,6" 2腔: Chamber A =Mx)18868521984龍先生
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AMAT mirra MESA CMP化學機械拋光設備
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,年份:2002,設備完整不缺件,已翻新在國內;)18868521984龍先生
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AMAT Endura CL PVD氣相沉積設備
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,年份:1994,1臺主機+IMP艙室+2個艙室+1臺EF)18868521984龍先生
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AMAT CENTRIS MESA ETCH沉積蝕刻
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,年份:-,有2臺現貨(1個主機+3個雙室,射頻機器)18868521984龍先生
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AMAT Endura II PVD 9個腔室氣相沉積設備
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,年份:2007,12"設備完整不缺件,目前設備在韓國倉庫)18868521984龍先生
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AMAT Endura II PVD 8個腔室氣相沉積設備
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,年份:2007,12"設備完整不缺件,目前設備在韓國倉庫)18868521984龍先生
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AMAT P5000刻蝕機
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,年份:1996,6"設備完整不缺件,3腔;)18868521984龍先生
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AMAT Centura 5200刻蝕機
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,年份:-,設備完整不缺件,8英寸3腔表觀系統;)18868521984龍先生
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,年份:1996,CVD 3chamber;nitride)18868521984龍先生
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AMAT 8330干法刻蝕機
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,年份:-,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1988.8,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1990.2,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1992.6,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1991.5,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1990.7,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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,年份:1991.4,6"最大1801W,18片/爐,機械手傳)18868521984龍先生
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