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| 圖 片 |
設(shè)備名稱 |
制造商 |
型號 |
年份 |
詳細(xì)配置 |
狀 態(tài) |
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AMAT ENDURA HP氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
ENDURA HP |
2004 |
8"設(shè)備完整不缺件,有2臺現(xiàn)貨; |
國外
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AMAT VIISta HC離子注入機(jī) |
AMAT |
VIISta HC |
- |
設(shè)備完整不缺件； |
國外
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AMAT Centura-DPS刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura-DPS |
2007 |
12"設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT Centura AP-DPS刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura AP-DPS |
2005 |
12"設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT Chamber |
- |
12"設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Centura WxZ刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura WxZ |
2000 |
設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Reflexion miniship LK機(jī)械拋光設(shè)備 |
AMAT |
Reflexion miniship LK |
- |
12"設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Vantage_AP擴(kuò)散爐 |
AMAT |
Vantage_AP |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Endura-CL (MOCVD)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Endura-CL (MOCVD) |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT RTP XE CENTURA退火爐 |
AMAT |
RTP XE CENTURA |
- |
200mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT VIISTA HC 大束流離子注入機(jī) |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT VIISTA HC 大束流離子注入機(jī) |
AMAT |
VIISTA HC |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT G5-MESA蝕刻機(jī) |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT G5-MESA蝕刻機(jī) |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT G5-MESA蝕刻機(jī) |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT G5-MESA蝕刻機(jī) |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT G5-MESA蝕刻機(jī) |
AMAT |
G5-MESA |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Centura Etch Enabler 300 2蝕刻機(jī) |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT Centura Etch Enabler 300 2蝕刻機(jī) |
AMAT |
Centura Etch Enabler 300 2 |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler蝕刻機(jī) |
AMAT |
Centura Enabler |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Raider ECD310電化學(xué)沉積設(shè)備 |
AMAT |
Raider ECD310 |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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|
AMAT CenturaHDP 5300Omega干式蝕刻機(jī) |
AMAT |
CenturaHDP 5300Omega |
- |
200mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT UVISION4缺陷檢測工具 |
AMAT |
UVISION4 |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉積設(shè)備 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
|
|
AMAT HTF-Centura EPI外延沉積設(shè)備 |
AMAT |
HTF-Centura EPI |
- |
200mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT RF3 涂膠顯影機(jī) |
AMAT |
RF3 |
- |
300mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT CENTURE MXP刻蝕機(jī) |
AMAT |
CENTURE MXP |
- |
200mm設(shè)備完整不缺件; |
國外
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AMAT Endura 5500 MOCVD氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Endura 5500 |
1996 |
6"PVD System,
Can |
國外
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 |
AMAT P5000 PECVD刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
1996 |
6" 2腔:SiO2+Si3N4,設(shè)備在 |
國外
|
|
AMAT P5000 DRY ETCH刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
1999 |
6" 2腔: Chamber A =Mx |
國外
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AMAT mirra MESA CMP化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
2002 |
設(shè)備完整不缺件,已翻新在國內(nèi); |
國外
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AMAT Endura II PVD 9個(gè)腔室氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Endura II PVD 9 |
2007 |
12"設(shè)備完整不缺件,目前設(shè)備在韓國倉庫 |
國外
|
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AMAT Endura II PVD 8個(gè)腔室氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Endura II PVD 8 |
2007 |
12"設(shè)備完整不缺件,目前設(shè)備在韓國倉庫 |
國外
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AMAT Centura 5200刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
設(shè)備完整不缺件,8英寸3腔表觀系統(tǒng); |
國外
|
 |
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
P5000 |
1996 |
CVD 3chamber;nitride |
國外
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|
YAMATO DKN402烤箱 |
YAMATO |
DKN402 |
- |
- |
國外
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|
AMAT 8310刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8310 |
1988.6 |
在購熱機(jī) 6" 刻壓點(diǎn);18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1991.4 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1990.7 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1990.7 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1990.5 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8310刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8310 |
1991.5 |
在購熱機(jī) 6" 刻壓點(diǎn);18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8310刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8310 |
1992.6 |
在購熱機(jī) 6" 刻壓點(diǎn);18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1990.2 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT 8330刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
8330 |
1988.8 |
在購熱機(jī) 6" 刻AL;18片/爐;最大 |
國外
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA ENABLER干法刻蝕設(shè)備 |
AMAT應(yīng)用材料 |
MATERIALS CENTURA ENABLER |
2008 |
System
AC Rack
國外
|
|
|
AMAT MATERIALS Centura HTF EPI外延沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
MATERIALS Centura HTF EPI Syst |
- |
美國已下線 |
國外
|
|
AMAT Producer-GT CVD化學(xué)氣相沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
P5000 |
- |
8 REFURB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
- |
設(shè)備完整不缺件,1 CVD+1蝕刻; |
國外
|
|
AMAT Amat Centura2 DSP等離子化學(xué)氣相沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
Amat Centura2 DSP |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura Ultima HDP等離子化學(xué)氣相沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura Ultima HDP |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura Ultima等離子化學(xué)氣相沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura Ultima |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT Centura2 DPS+Poly Etch干法蝕刻機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura2 DPS+Poly Etch |
- |
8 As-is |
國外
|
|
AMAT P5000 PLIS刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
P5000 PLIS |
- |
翻新機(jī)Standard TEOS USG |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT |
2007 |
晶圓尺寸：300mm
生產(chǎn)者 GT： |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT |
2008 |
晶圓尺寸：300mm
生產(chǎn)者GT：配置 |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
P5000 |
- |
2CH / 3CH |
國外
|
|
AMAT Vera SEM 3D測量系統(tǒng) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
國外
|
|
AMAT Vera SEM 3D測量系統(tǒng) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Vera SEM 3D |
- |
Metrology |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
P5000 |
1995 |
2 chambers CVD
3 ch |
國外
|
|
AMAT Centura 5200刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura 5200 |
- |
CVD System,6"(3)Cham |
國外
|
|
AMAT MATERIALS CENTURA AP MINOS蝕刻機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
APPLIED MATERIALS CENTURA AP M |
- |
- |
國外
|
|
AMAT 8310氧化物蝕刻器 |
AMAT應(yīng)用材料 |
8310 |
- |
8" |
國外
|
|
AMAT AKT-3500蝕刻機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
AKT-3500 |
2018 |
CVD |
國外
|
|
AMAT Centura DPS刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura DPS |
1998 |
ETCH |
國外
|
|
AMAT Centura DXZ刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura DXZ |
1999 |
CVD |
國外
|
|
AMAT Centura MXP刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura MXP |
1997 |
ETCH |
國外
|
|
AMAT Centura XE刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura XE |
2003 |
RTP |
國外
|
|
AMAT Centura XE+刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura XE+ |
2003 |
RTP |
國外
|
|
AMAT Centura DPS+Poly Etch等離子體蝕刻設(shè)備 |
AMAT |
Centura DPS+Poly Etch |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT Producer-GT CVD化學(xué)氣相沉積 |
AMAT應(yīng)用材料 |
Producer-GT CVD |
- |
As-is |
國外
|
|
AMAT mirra MESA CMP化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備 |
AMAT |
mirra MESA CMP |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
- |
8" REFURB |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
- |
FULL REPUB |
國外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等離子體蝕刻設(shè)備 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(NT, Yaskawa), 3 |
國外
|
|
AMAT Centura Axiom Chamber薄膜沉積設(shè)備 |
AMAT |
Centura Axiom Chamber |
2006 |
Axiom Only (w/VODM) |
國外
|
|
AMAT P5000刻蝕機(jī) |
AMAT |
P5000 |
1988 |
CVD Mark1, 3x DLH |
國外
|
|
AMAT Reflexion FA拋光設(shè)備 |
AMAT |
Reflexion FA |
2005 |
CMP |
國外
|
|
AMAT Vantage 5外延爐 |
AMAT |
Vantage 5 |
2012 |
RTP |
國外
|
|
AMAT Centura DPS2 Metal等離子體蝕刻設(shè)備 |
AMAT |
Centura DPS2 Metal |
2005 |
EFEM(Server, Yaskawa |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT |
2011 |
3 Twin(HARP USG, RPC |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT |
2010 |
1 Twin CH(ACL) only |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler Etch刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura Enabler |
2007 |
- |
國外
|
|
AMAT Centura Chamber刻蝕機(jī) |
AMAT應(yīng)用材料 |
Centura Chamber |
2010 |
2 x Minos, 1 x Carin |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
MULTIPLE UNITS AVAIL |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2002 |
ULTIPLE UNITS AVAILB |
國外
|
|
AMAT Centura Enabler Chamber蝕刻機(jī) |
AMAT |
Centura Enabler Chamber |
2004 |
Condition : Very Goo |
國外
|
|
AMAT Vantage Vulcan外延爐 |
AMAT |
Vantage Vulcan |
2013 |
2 Chamber RTP System |
國外
|
|
AMAT Producer GT CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Producer GT |
2014 |
Parts Machine: 1 x P |
國外
|
|
AMAT Olympia CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備 |
AMAT |
Olympia |
2015 |
2Ch ALD System, Sing |
國外
|
|
AMAT ACMS XT II Component晶圓清洗 |
AMAT |
ACMS XT II |
2005 |
- |
國外
|
|
AMAT ACMS0XT-ASG-E Component清洗設(shè)備 |
AMAT |
ACMS0XT-ASG-E |
2006 |
- |
國外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光學(xué)檢測計(jì)量設(shè)備 |
AMAT |
UVision 5 |
2011 |
- |
國外
|
|
AMAT UVision 5 Metrology光學(xué)檢測計(jì)量設(shè)備 |
AMAT |
UVision 5 |
2012 |
300mm G1 Load Port 2 |
國外
|
|
AMAT Centura Carina Chamber Etch刻蝕機(jī) |
AMAT |
Centura Carina Chamber |
- |
Chamber Only.
Carin |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
國外
|
|
AMAT NanoSEM 3D Metrology掃描電子顯微鏡 |
AMAT |
NanoSEM 3D |
2004 |
Installed. Operatio |
國外
|
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